OD380*23mm Nonmagnetic Non Toxic Titanium Targets

টাইটানিয়াম টার্গেট Gr2 ASTM B381-06 a OD380*23 Sputtering Target Sputtering Materials Target Sputtering

আবরণ লক্ষ্য একটি sputtering উৎস যে ম্যাগনেট্রন sputtering, মাল্টি-আর্ক আয়ন কলাই বা উপযুক্ত প্রযুক্তিগত অবস্থার অধীনে আবরণ সিস্টেমের অন্যান্য ধরনের দ্বারা স্তরের উপর বিভিন্ন কার্যকরী ছায়াছবি গঠন করে।সহজভাবে বলতে গেলে, লক্ষ্য উপাদান হল উচ্চ গতির চার্জযুক্ত কণার বোমাবর্ষণের লক্ষ্য উপাদান।যখন উচ্চ শক্তির লেজার অস্ত্র ব্যবহার করা হয়, বিভিন্ন শক্তির ঘনত্ব, বিভিন্ন আউটপুট তরঙ্গাকৃতি এবং লেজারের বিভিন্ন তরঙ্গদৈর্ঘ্য বিভিন্ন লক্ষ্যবস্তুর সাথে ইন্টারঅ্যাক্ট করে, বিভিন্ন হত্যা এবং ধ্বংসের প্রভাব তৈরি হবে।উদাহরণস্বরূপ, বাষ্পীভবনকারী ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং লেপ উত্তপ্ত বাষ্পীভবন আবরণ, অ্যালুমিনিয়াম ফিল্ম, ইত্যাদি বিভিন্ন লক্ষ্য উপাদান পরিবর্তন করুন (যেমন অ্যালুমিনিয়াম, তামা, স্টেইনলেস স্টিল, টাইটানিয়াম, নিকেল লক্ষ্য, ইত্যাদি), বিভিন্ন ফিল্ম সিস্টেম পেতে পারেন (যেমন সুপার হার্ড , প্রতিরোধী, জারা প্রতিরোধী খাদ ফিল্ম, ইত্যাদি পরিধান করুন)।

ভেজা আবরণ প্রযুক্তির তুলনায়, ভ্যাকুয়াম আবরণ প্রযুক্তির নিম্নলিখিত সুবিধা রয়েছে:
(1) পাতলা ছায়াছবি এবং স্তরগুলির উপকরণগুলির বিস্তৃত নির্বাচন রয়েছে এবং বিভিন্ন ফাংশন সহ কার্যকরী ছায়াছবি প্রস্তুত করতে ফিল্মের বেধ নিয়ন্ত্রণ করা যায়।
(2) ভ্যাকুয়াম, পরিষ্কার পরিবেশে পাতলা ছায়াছবি প্রস্তুত করা এবং পাতলা ছায়াছবি সহজে দূষিত হয় না।অতএব, ভাল ঘনত্ব, উচ্চ বিশুদ্ধতা এবং অভিন্ন আবরণ সহ ছায়াছবি পাওয়া যেতে পারে।
(3) ফিল্ম এবং সাবস্ট্রেটের মধ্যে বন্ধন শক্তি ভাল এবং ফিল্ম দৃ়।
(4) শুষ্ক আবরণ বর্জ্য তরল বা পরিবেশ দূষণ তৈরি করে না।
ভ্যাকুয়াম লেপ প্রযুক্তিতে প্রধানত ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন, ভ্যাকুয়াম স্পটারিং, ভ্যাকুয়াম আয়ন প্রলেপ, ভ্যাকুয়াম বিম জমা, রাসায়নিক বাষ্প জমা ইত্যাদি অন্তর্ভুক্ত রয়েছে।রাসায়নিক বাষ্প জমা ছাড়াও, অন্যান্য পদ্ধতিতে নিম্নলিখিত সাধারণ বৈশিষ্ট্য রয়েছে:
(1) সমস্ত ধরণের আবরণ প্রযুক্তির জন্য একটি নির্দিষ্ট ভ্যাকুয়াম পরিবেশের প্রয়োজন হয় যাতে বাষ্পের অণুগুলির চলাচল নিশ্চিত করা যায় যা গরম বাষ্পীভবন বা ফুসকুড়ি প্রক্রিয়ায় গঠিত হয়, যাতে বায়ুমণ্ডলে বিপুল সংখ্যক গ্যাসের অণু দ্বারা আঘাত, অবরোধ এবং হস্তক্ষেপ না হয়, এবং বায়ুমণ্ডলে অমেধ্যের ক্ষতিকর প্রভাব দূর করতে।
(2) বাষ্পীভবন ফিল্মের উপকরণগুলিকে গ্যাসে রূপান্তর করার জন্য সমস্ত লেপ প্রযুক্তির উৎস বা লক্ষ্য প্রয়োজন।উৎস বা টার্গেটের ক্রমাগত উন্নতির কারণে, চলচ্চিত্র তৈরির উপকরণের নির্বাচনের পরিসর ব্যাপকভাবে প্রসারিত হয়েছে।ধাতু, ধাতু মিশ্রণ, ইন্টারমেটালিক যৌগ, সিরামিক বা জৈব পদার্থ বিভিন্ন ধাতব ছায়াছবি এবং ডাই -ইলেক্ট্রিক ফিল্ম দিয়ে বাষ্পীভূত হতে পারে এবং একই সাথে বিভিন্ন উপকরণ বাষ্পীভূত করেও পাওয়া যায়।
(3) বাষ্পীভূত বা ছিটানো চলচ্চিত্র তৈরির উপকরণগুলি সঠিকভাবে পরিমাপ করা যেতে পারে এবং ওয়ার্কপিসের সাথে পাতলা ছায়াছবি তৈরির প্রক্রিয়ায় নিয়ন্ত্রণ করা যেতে পারে, যাতে ফিল্মের বেধের অভিন্নতা নিশ্চিত করা যায়।
(4) প্রতিটি ফিল্ম একটি সূক্ষ্ম সমন্বয় ভালভের মাধ্যমে লেপ চেম্বারে অবশিষ্ট গ্যাসের গঠন এবং ভর ভগ্নাংশকে সঠিকভাবে নিয়ন্ত্রণ করতে পারে, যার ফলে বাষ্পীভবন উপাদানের জারণ রোধ করে, অক্সিজেনের ভর ভগ্নাংশকে ন্যূনতম করে এবং নিষ্ক্রিয় গ্যাস পূরণ করে , যা ভেজা আবরণের জন্য অসম্ভব।
(5) লেপের সরঞ্জামগুলির ক্রমাগত উন্নতির কারণে, লেপ প্রক্রিয়াটি ধারাবাহিকভাবে উপলব্ধি করা যায়, যার ফলে পণ্যের আউটপুট ব্যাপকভাবে উন্নত হয় এবং উত্পাদন প্রক্রিয়ার সময় পরিবেশে কোন দূষণ হয় না।
(6) কারণ চলচ্চিত্রটি ভ্যাকুয়ামে তৈরি করা হয়েছে, চলচ্চিত্রের বিশুদ্ধতা বেশি, ঘনত্ব ভাল এবং প্রক্রিয়াকরণ ছাড়াই পৃষ্ঠ উজ্জ্বল।এটি ফিল্মের যান্ত্রিক এবং রাসায়নিক বৈশিষ্ট্যগুলিকে ইলেক্ট্রোডিপোজিট ফিল্ম এবং কেমিক্যাল ফিল্মের চেয়ে ভাল করে তোলে।

1. নিম্ন ঘনত্ব এবং উচ্চ স্পেসিফিকেশন শক্তি
2. চমৎকার জারা প্রতিরোধের
3. উত্তাপের প্রভাবের ভাল প্রতিরোধ
4. ক্রায়োজেনিক্স সম্পত্তির জন্য চমৎকার সহনশীলতা
5. অ-চুম্বকীয় এবং অ-বিষাক্ত
6. ভাল তাপীয় বৈশিষ্ট্য
7. স্থিতিস্থাপকতা কম মডুলাস